Halogen elimination device for processing substrate to be processed, device for processing substrate to be processed, and method for processing substrate to be processed.
WO2012117943
Art A1
7. September 2012
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012117943
- Aktenzeichen
- EP12751831
- Anmeldetag
- 23. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 7. September 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B08B3/00B08B3/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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