Halogen elimination device for processing substrate to be processed, device for processing substrate to be processed, and method for processing substrate to be processed.

WO2012117943 Art A1 7. September 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012117943
Aktenzeichen
EP12751831
Anmeldetag
23. Februar 2012
Veröffentlichung
7. September 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B08B3/00B08B3/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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