Annealing method and annealing equipment

WO2012118119 Art A1 7. September 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012118119
Aktenzeichen: EP12752160
Anmeldetag: 29. Februar 2012
Veröffentlichung: 7. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/268H01L21/31H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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