Defect inspection method, defect inspection apparatus, and method for manufacturing substrate

WO2012120973 Art A1 13. September 2012

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012120973
Aktenzeichen: EP12754401
Anmeldetag: 10. Februar 2012
Veröffentlichung: 13. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/00G01N25/72G01N27/20G01R31/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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