Treatment Liquid Flow Rate Meter

WO2012120984 Art A1 13. September 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Horiba Advanced Techno, co., ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012120984
Aktenzeichen: EP12755159
Anmeldetag: 15. Februar 2012
Veröffentlichung: 13. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01F1/66G01N29/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Horiba Advanced Techno, co., ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von