Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

WO2012121132 Art A1 13. September 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Nagoya University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012121132
Aktenzeichen: EP12754664
Anmeldetag: 2. März 2012
Veröffentlichung: 13. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24C23C16/511H01L21/304H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Nagoya University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National University Corporation Nagoya University

Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.

702 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von