Method for depositing gradient films on a substrate surface by atomic layer deposition

WO2012121677 Art A1 13. September 2012

Anmelder: Nanyang Technological University 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012121677
Aktenzeichen: EP12755086
Anmeldetag: 9. März 2012
Veröffentlichung: 13. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nanyang Technological University
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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