Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus

WO2012123000 Art A1 20. September 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012123000
Aktenzeichen: EP11708415
Anmeldetag: 15. März 2011
Veröffentlichung: 20. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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