Modeling Euv Lithography Shadowing Effect

WO2012125409 Art A2 20. September 2012

Anmelder: Synopsys, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012125409
Aktenzeichen: EP12758315
Anmeldetag: 8. März 2012
Veröffentlichung: 20. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G06F17/50G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Synopsys, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

483 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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