Precursors and methods for the atomic layer deposition of manganese

WO2012125439 Art A2 20. September 2012

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012125439
Aktenzeichen: EP12757366
Anmeldetag: 9. März 2012
Veröffentlichung: 20. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C07F13/00C23C16/18C07B61/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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