Method and apparatus for inspecting a reflective lithographic mask blank and improving mask quality
WO2012125581
Art A2
20. September 2012
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012125581
- Aktenzeichen
- EP12757079
- Anmeldetag
- 12. März 2012
- Veröffentlichung
- 20. September 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/22G03F1/84G03F1/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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