Lithography apparatus

WO2012126621 Art A2 27. September 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012126621
Aktenzeichen: EP12715818
Anmeldetag: 21. März 2012
Veröffentlichung: 27. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01D11/30

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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