Radiation-sensitive composition, cured film of same, and method for forming cured film

WO2012127964 Art A1 27. September 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012127964
Aktenzeichen: EP12760850
Anmeldetag: 21. Februar 2012
Veröffentlichung: 27. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075C08F290/14C08G77/14C08G77/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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