Filtration filter and production method therefor

WO2012128235 Art A1 27. September 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012128235
Aktenzeichen: EP12759907
Anmeldetag: 13. März 2012
Veröffentlichung: 27. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B01D29/46B01D29/62B01D29/66B01D39/10B01D39/16B01D39/20B01D65/02B01D69/02B01D71/02B01D71/64

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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