Optical element, illuminating apparatus, measuring apparatus, photomask, exposure method, and device manufacturing method

WO2012128323 Art A1 27. September 2012

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012128323
Aktenzeichen: EP12760564
Anmeldetag: 22. März 2012
Veröffentlichung: 27. September 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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