Method for producing gallium nitride layer and seed crystal substrate used in same
WO2012128375
Art A1
27. September 2012
Anmelder: NGK Insulators, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012128375
- Aktenzeichen
- EP12761210
- Anmeldetag
- 16. März 2012
- Veröffentlichung
- 27. September 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/38C30B19/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NGK Insulators, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NGK Insulators
Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.
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