Noble polyamic acid, photosensitive resin composition, dry film, and circuit board
WO2012128526
Art A2
27. September 2012
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012128526
- Aktenzeichen
- EP12759900
- Anmeldetag
- 19. März 2012
- Veröffentlichung
- 27. September 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G73/10G03F7/028C08J5/18H05K1/03C08L79/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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