Photosensitive resin composition, photosensitive element using same, method for forming partition wall of image display device, and method for manufacturing image display device

WO2012133116 Art A1 4. Oktober 2012

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012133116
Aktenzeichen: EP12764528
Anmeldetag: 22. März 2012
Veröffentlichung: 4. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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