Sputtering target for magnetic recording film
WO2012133166
Art A1
4. Oktober 2012
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012133166
- Aktenzeichen
- EP12764066
- Anmeldetag
- 23. März 2012
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C5/02C22C5/04C22C5/06C22C30/00C22C30/02C22C38/00G11B5/851C22C1/04C22C33/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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