Plasma-generating apparatus and substrate-treating apparatus

WO2012134199 Art A2 4. Oktober 2012

Anmelder: Jusung Engineering Co. Ltd., Korea Advanced Institute Of Science And Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012134199
Aktenzeichen: EP12763853
Anmeldetag: 29. März 2012
Veröffentlichung: 4. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Jusung Engineering Co. Ltd.
Korea Advanced Institute Of Science And Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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