Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
WO2012137760
Art A1
11. Oktober 2012
Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012137760
- Aktenzeichen
- EP12767619
- Anmeldetag
- 3. April 2012
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/29H01L25/07H01L25/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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