Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

WO2012137866 Art A1 11. Oktober 2012

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012137866
Aktenzeichen: EP12768578
Anmeldetag: 5. April 2012
Veröffentlichung: 11. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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