Manufacturing method for silicon carbide semiconductor device

WO2012137959 Art A1 11. Oktober 2012

Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012137959
Aktenzeichen: EP12768442
Anmeldetag: 6. April 2012
Veröffentlichung: 11. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L29/47H01L29/872

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fuji Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fuji Electric

Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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