Separation method, separation device, and separation system

WO2012140988 Art A1 18. Oktober 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012140988
Aktenzeichen: EP12771777
Anmeldetag: 16. März 2012
Veröffentlichung: 18. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/304H01L21/677H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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