Oxide semiconductor material and sputtering target

WO2012141066 Art A1 18. Oktober 2012

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012141066
Aktenzeichen: EP12771439
Anmeldetag: 5. April 2012
Veröffentlichung: 18. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L21/363C01G19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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