Process monitor apparatus used in substrate processing apparatus, process monitor method, and substrate processing apparatus

WO2012141090 Art A1 18. Oktober 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012141090
Aktenzeichen: EP12771055
Anmeldetag: 6. April 2012
Veröffentlichung: 18. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06G01N21/84H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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