Method of processing a wafer by using and reusing photolithographic masks

WO2012142149 Art A1 18. Oktober 2012

Anmelder: Harris Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012142149
Aktenzeichen: EP12719140
Anmeldetag: 11. April 2012
Veröffentlichung: 18. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/48G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Harris Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Harris Corporation

Ehemaliges US-amerikanisches Unternehmen für Kommunikations- und Verteidigungstechnik mit Sitz in Florida. Fusionierte 2019 mit L3 Technologies zu L3Harris Technologies.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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