Plasma evaluation method, plasma processing method and plasma processing apparatus

WO2012144523 Art A1 26. Oktober 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012144523
Aktenzeichen: EP12773804
Anmeldetag: 18. April 2012
Veröffentlichung: 26. Oktober 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/511C23C16/52H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von