Microwave plasma generation device, and magnetron sputtering film deposition device using same

WO2012147771 Art A1 1. November 2012

Anmelder: Tokai Rubber Industries, Ltd., National University Corporation Nagoya University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012147771
Aktenzeichen: EP12776472
Anmeldetag: 25. April 2012
Veröffentlichung: 1. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokai Rubber Industries, Ltd.
National University Corporation Nagoya University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National University Corporation Nagoya University

Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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