In-ga-zn oxide sputtering target and method for producing same

WO2012153491 Art A1 15. November 2012

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012153491
Aktenzeichen: EP12781720
Anmeldetag: 27. April 2012
Veröffentlichung: 15. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00H01B5/14H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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