Defect observation method and device therefor

WO2012153652 Art A1 15. November 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012153652
Aktenzeichen: EP12782442
Anmeldetag: 27. April 2012
Veröffentlichung: 15. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225G01B11/00G01B11/02G01N21/956H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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