Method for manufacturing semiconductor device, method for manufacturing semiconductor wafer with semiconductor element, method for manufacturing semiconductor wafer with adhesive layer, and method for manufacturing semiconductor wafer laminated body
WO2012153846
Art A1
15. November 2012
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012153846
- Aktenzeichen
- EP12782583
- Anmeldetag
- 11. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 15. November 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/60C09J4/02C09J7/02H01L21/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
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