Method for achieving smooth side walls after bosch etch process

WO2012154764 Art A2 15. November 2012

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012154764
Aktenzeichen: EP12782506
Anmeldetag: 9. Mai 2012
Veröffentlichung: 15. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B81C1/00H01L21/302C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von