Pattern inspecting apparatus and pattern inspecting method

WO2012157181 Art A1 22. November 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012157181
Aktenzeichen: EP12784893
Anmeldetag: 6. April 2012
Veröffentlichung: 22. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225G03F1/84H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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