Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and method for making these

WO2012157629 Art A1 22. November 2012

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012157629
Aktenzeichen: EP12784915
Anmeldetag: 15. Mai 2012
Veröffentlichung: 22. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/38G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von