Plasma generation device

WO2012157844 Art A1 22. November 2012

Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012157844
Aktenzeichen: EP12786194
Anmeldetag: 26. März 2012
Veröffentlichung: 22. November 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H03H7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Advanced Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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