Nitride semiconductor laser element, epitaxial substrate, and method for fabricating nitride semiconductor laser element
WO2012161268
Art A1
29. November 2012
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd., Sony Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012161268
- Aktenzeichen
- EP12789197
- Anmeldetag
- 24. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 29. November 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S5/323
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Sony Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
11.186 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Sony Group
Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.
37.212 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
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