Racetrack-shape magnetic field generator for magnetron sputtering

WO2012165385 Art A1 6. Dezember 2012

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012165385
Aktenzeichen: EP12792587
Anmeldetag: 28. Mai 2012
Veröffentlichung: 6. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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