Conductive structures, systems and devices including conductive structures and related methods

WO2012166451 Art A2 6. Dezember 2012

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012166451
Aktenzeichen: EP12792952
Anmeldetag: 23. Mai 2012
Veröffentlichung: 6. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8247H01L27/115H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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