Semiconductor structure and method for manufacturing same

WO2012167508 Art A1 13. Dezember 2012

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences, Beijing NMC Co., Ltd 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012167508
Aktenzeichen: EP11867247
Anmeldetag: 25. August 2011
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Beijing NMC Co., Ltd
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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