Charged particle beam device and sample production method

WO2012169323 Art A1 13. Dezember 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012169323
Aktenzeichen: EP12797594
Anmeldetag: 16. Mai 2012
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317H01J37/30H01J37/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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