Gas for plasma generation, plasma generation method, and atmospheric pressure plasma generated thereby

WO2012169588 Art A1 13. Dezember 2012

Anmelder: Tokyo Institute of Technology, Plasma Factory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012169588
Aktenzeichen: EP12796043
Anmeldetag: 7. Juni 2012
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24B08B3/08C23C8/36C23F4/00C23G5/00B01J19/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Institute of Technology
Plasma Factory Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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