Solvent-developable negative resist composition, resist pattern formation method, and method for forming pattern of layer including block copolymer

WO2012169620 Art A1 13. Dezember 2012

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Riken 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012169620
Aktenzeichen: EP12797658
Anmeldetag: 8. Juni 2012
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Riken
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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🇯🇵 RIKEN

Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von