Texture etching solution composition and texture etching method for crystalline silicon wafer

WO2012169722 Art A1 13. Dezember 2012

Anmelder: Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012169722
Aktenzeichen: EP12797419
Anmeldetag: 9. März 2012
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C09K13/02C23F1/24H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das optische Folien und Materialien für Displays und Touchscreens herstellt. Patente vor allem im Bereich Display- und Folientechnologie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von