Methods for cleaning a surface of a substrate using a hot wire chemical vapor deposition (hwcvd) chamber

WO2012170511 Art A2 13. Dezember 2012

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012170511
Aktenzeichen: EP12796560
Anmeldetag: 6. Juni 2012
Veröffentlichung: 13. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/302H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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