Passive Compensation For Temperature-Dependent Wafer Gap Changes in Plasma Processing Systems

WO2012173980 Art A2 20. Dezember 2012

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012173980
Aktenzeichen: EP12801245
Anmeldetag: 12. Juni 2012
Veröffentlichung: 20. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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