Self-assemblable polymer and methods for use in lithography

WO2012175343 Art A1 27. Dezember 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012175343
Aktenzeichen: EP12725833
Anmeldetag: 7. Juni 2012
Veröffentlichung: 27. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00C08G83/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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