Manufacturing method for buffer layer of photoelectric conversion element, and manufacturing method for photoelectric conversion element

WO2012176425 Art A1 27. Dezember 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012176425
Aktenzeichen: EP12802931
Anmeldetag: 19. Juni 2012
Veröffentlichung: 27. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/368H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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