Negative photosensitive resin composition and cured product of same

WO2012176750 Art A1 27. Dezember 2012

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012176750
Aktenzeichen: EP12803160
Anmeldetag: 19. Juni 2012
Veröffentlichung: 27. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08G59/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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