Resist Underlayer Film Forming Composition Containing Polyhydroxybenzene Novolac Resin

WO2012176767 Art A1 27. Dezember 2012

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012176767
Aktenzeichen: EP12802011
Anmeldetag: 19. Juni 2012
Veröffentlichung: 27. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G8/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von