Method of optimizing an optical parametric model for structural analysis using optical critical dimension (ocd) metrology

WO2012177477 Art A2 27. Dezember 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, KLA-Tencor Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012177477
Aktenzeichen: EP12803146
Anmeldetag: 14. Juni 2012
Veröffentlichung: 27. Dezember 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G06T7/00G01B11/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
KLA-Tencor Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von